查看详情。hwfkkll (站内联系TA)6楼: Originally posted by hotday at 2011-12-12 18:35:52:这种方法主要用于制备易氧化，且一旦氧化即不易采用还原的方法降低氧含量的合金或金属粉末。金属雾化制粉设备|其主要原理如图所示。真空非晶带材（片材）装置特点与用途： 用于熔炼高熔点金属合金、半导体材料及稀土材料的提纯。真空雾化原指含有一定含量高压气体的熔液在真空中自发破碎为合金粉末的方法，而我们所称的真空雾化主要指原料在真空环境中熔炼，并在惰气保护环境下采用惰性气体进行雾化的方法，两者之间有本质的区别。
